liu.seSearch for publications in DiVA
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Ti3SiC2-formation during Ti–C–Si multilayer deposition by magnetron sputtering at 650 °C
Manchester Metropolitan University, UK.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0003-1785-0864
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0002-2837-3656
Vise andre og tillknytning
2013 (engelsk)Inngår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 93, s. 56-59Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
Abstract [en]

Titanium Silicon Carbide films were deposited from three separate magnetrons with elemental targets onto Si wafer substrates. The substrate was moved in a circular motion such that the substrate faces each magnetron in turn and only one atomic species (Ti, Si or C) is deposited at a time. This allows layer-by-layer film deposition. Material average composition was determined to Ti0.47Si0.14C0.39 by energy-dispersive X-ray spectroscopy. High-resolution transmission electron microscopy and Raman spectroscopy were used to gain insights into thin film atomic structure arrangements. Using this new deposition technique formation of Ti3SiC2 MAX phase was obtained at a deposition temperature of 650 °C, while at lower temperatures only silicides and carbides are formed. Significant sharpening of Raman E2g and Ag peaks associated with Ti3SiC2 formation was observed.

sted, utgiver, år, opplag, sider
Elsevier , 2013. Vol. 93, s. 56-59
Emneord [en]
MAX phase, Titanium silicon carbide, Nano-laminate, Physical vapour deposition, Raman microscopy
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-91005DOI: 10.1016/j.vacuum.2013.01.003ISI: 000316092900010OAI: oai:DiVA.org:liu-91005DiVA, id: diva2:615673
Merknad

Funding Agencies|EPSRC|EP/G033471/1EP/F056117/1|ERC|227754|

Tilgjengelig fra: 2013-04-12 Laget: 2013-04-11 Sist oppdatert: 2017-12-06bibliografisk kontrollert

Open Access i DiVA

fulltext(969 kB)637 nedlastinger
Filinformasjon
Fil FULLTEXT01.pdfFilstørrelse 969 kBChecksum SHA-512
0d890de3d2d6a202a76b2da229d7f55a377dcbe313d8082d5fa6919ad8b5811f91a233dceaada03cb2556e24e1317687846faadd8f385dffae56867e6db4d6c3
Type fulltextMimetype application/pdf

Andre lenker

Forlagets fulltekst

Personposter BETA

Lu, JunEklund, PerHultman, Lars

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Lu, JunEklund, PerHultman, Lars
Av organisasjonen
I samme tidsskrift
Vacuum

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 637 nedlastinger
Antall nedlastinger er summen av alle nedlastinger av alle fulltekster. Det kan for eksempel være tidligere versjoner som er ikke lenger tilgjengelige

doi
urn-nbn

Altmetric

doi
urn-nbn
Totalt: 384 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf