liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Low-pressure sublimation epitaxy of AlN films - growth and characterization
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.
Visa övriga samt affilieringar
2004 (Engelska)Ingår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 76, s. 143-146Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

Epitaxial layers of aluminum nitride have been grown at temperatures 1900-2400degreesC on 10 x 10 mm(2) 4H-SiC substrate via sublimation recondensation in an RF heated graphite furnace. The source material was polycrystalline sintered AlN. A maximum growth rate of about 100 mum/h was achieved at 2400degreesC and seed to source distance of 1 mm. The surface morphology reflects the hexagonal symmetry of the seed suggesting an epitaxial growth. This was confirmed by X-ray diffraction (XRD). The spectra showed very strong and well-defined (0002) reflection position at around 36.04degrees in symmetric Theta-2Thetascans for all samples. Micro-Raman spectroscopy reveals that the films have a wurtzite structure. It is evidenced by the appearance of the A(1) (TO) (at 601 cm(-1)) and E-2((2)) (at 651 cm(-1)) lines in the spectra. Secondary-ion mass spectroscopy (SIMS) results showed a low concentration of carbon incorporation in the AlN films. A correlation between the growth conditions and properties of the AlN layers was established.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2004. Vol. 76, s. 143-146
Nyckelord [en]
AIN, sublimation, morphology, XRD, Raman
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-40881DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.07.052Lokalt ID: 54459OAI: oai:DiVA.org:liu-40881DiVA, id: diva2:261730
Tillgänglig från: 2009-10-10 Skapad: 2009-10-10 Senast uppdaterad: 2017-12-13

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Beshkova, MilenaBirch, JensKakanakova-Georgieva, AneliaYakimova, Rositsa

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Beshkova, MilenaBirch, JensKakanakova-Georgieva, AneliaYakimova, Rositsa
Av organisationen
Tekniska högskolanHalvledarmaterialTunnfilmsfysik
I samma tidskrift
Vacuum
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 278 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf