liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
In-situ observation of self-cleansing phenomena during ultra-high vacuum anneal of transition metal nitride thin films: Prospects for non-destructive photoelectron spectroscopy
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.ORCID-id: 0000-0002-4898-5115
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.ORCID-id: 0000-0002-2837-3656
2016 (Engelska)Ingår i: Applied Physics Letters, ISSN 0003-6951, E-ISSN 1077-3118, Vol. 109, nr 21, artikel-id 211602Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

Self-cleansing of transition metal nitrides is discovered to take place during ultra-high vacuum annealing of TiN, NbN, and VN thin films. Native oxide layers from air exposure disappear after isothermal anneal at 1000 degrees C. Also, for TiN, the Ti 2p and N 1s X-ray photoelectron spectra (XPS) recorded after the anneal are identical to those obtained from in-situ grown and analyzed epitaxial TiN(001). These unexpected effects are explained by oxide decomposition in combination with N-replenishing of the nitride during recrystallization. The finding opens up new possibilities for true bonding assignments through non-destructive XPS analyses, thus avoiding artefacts from Ar etching. (C) 2016 Author(s).

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
AMER INST PHYSICS , 2016. Vol. 109, nr 21, artikel-id 211602
Nationell ämneskategori
Materialkemi
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-133521DOI: 10.1063/1.4968803ISI: 000388834200005OAI: oai:DiVA.org:liu-133521DiVA, id: diva2:1060885
Anmärkning

Funding Agencies|VINN Excellence Center Functional Nanoscale Materials (FunMat) [2005-02666]; Swedish Government Strategic Research Area in Materials Science on Functional Materials at Linkoping University (Faculty Grant SFO-Mat-LiU) [2009-00971]; Knut and Alice Wallenberg Foundation [2011.0143]; Aforsk Foundation [16-359]

Tillgänglig från: 2016-12-30 Skapad: 2016-12-29 Senast uppdaterad: 2017-11-29

Open Access i DiVA

fulltext(586 kB)89 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 586 kBChecksumma SHA-512
46965b417c42e538b9ea7d7ead90e61ca2d4a7dd08c068ba56952385c34729b8bcab5b49cbf28474ed067f32e58591da41efb2b0542f7658d189700ef2fc6c37
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Greczynski, GrzegorzHultman, Lars
Av organisationen
TunnfilmsfysikTekniska fakulteten
I samma tidskrift
Applied Physics Letters
Materialkemi

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 89 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 135 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf