liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0002-1744-7322
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Materials and Engineering Research Institute, Sheffield Hallam University, Sheffield, UK.
Visa övriga samt affilieringar
2006 (Engelska)Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 513, nr 1-2, s. 1-24Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

In plasma-based deposition processing, the importance of low-energy ion bombardment during thin film growth can hardly be exaggerated. Ion bombardment is an important physical tool available to materials scientists in the design of new materials and new structures. Glow discharges and in particular the magnetron sputtering discharge have the advantage that the ions of the discharge are abundantly available to the deposition process. However, the ion chemistry is usually dominated by the ions of the inert sputtering gas while ions of the sputtered material are rare. Over the past few years, various ionized sputtering techniques have appeared that can achieve a high degree of ionization of the sputtered atoms, often up to 50 % but in some cases as much as approximately 90%. This opens a complete new perspective in the engineering and design of new thin film materials. The development and application of magnetron sputtering systems for ionized physical vapor deposition (IPVD) is reviewed. The application of a secondary discharge, inductively coupled plasma magnetron sputtering (ICP-MS) and microwave amplified magnetron sputtering, is discussed as well as the high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS), the self-sustained sputtering (SSS) magnetron, and the hollow cathode magnetron (HCM) sputtering discharges. Furthermore, filtered arc-deposition is discussed due to its importance as an IPVD technique. Examples of the importance of the IPVD-techniques for growth of thin films with improved adhesion, improved microstructures, improved coverage of complex shaped substrates, and increased reactivity with higher deposition rate in reactive processes are reviewed.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Elsevier, 2006. Vol. 513, nr 1-2, s. 1-24
Nyckelord [en]
Ionized physical vapor deposition, Sputtering, Plasma processing and deposition, Arc-evaporation
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-10434DOI: 10.1016/j.tsf.2006.03.033OAI: oai:DiVA.org:liu-10434DiVA, id: diva2:17175
Tillgänglig från: 2007-12-13 Skapad: 2007-12-13 Senast uppdaterad: 2018-06-13

Open Access i DiVA

fulltext(2274 kB)766 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT02.pdfFilstorlek 2274 kBChecksumma SHA-512
1ac5c3ecf2d1750c2b087a22b7f72fd047b0edb354da2276372ef0726ed85b31d83886cfab37e5d0ebee587d7a7e9958e9862f08c5e5bf41b6275e31b536d76e
Typ fulltextMimetyp application/pdf
Figures in OPJ format(391 kB)21 nedladdningar
Filinformation
Filnamn DATASET01.zipFilstorlek 391 kBChecksumma SHA-512
9c8b0ce56f750ea00b8ddd2715b1be0879dd1642bc1a6fc878c356b3465d143eedeff9e884d9cb0e8a24cb31d5aa712b2a21e7a4e0f7187b508cf14a9b7196c4
Typ datasetMimetyp application/zip

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Helmersson, UlfLattemann, MartinaBöhlmark, Johan

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Helmersson, UlfLattemann, MartinaBöhlmark, Johan
Av organisationen
Plasma och beläggningsfysikTekniska högskolanInstitutionen för fysik, kemi och biologi
I samma tidskrift
Thin Solid Films
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 2671 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 1803 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf