liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Deposition of epitaxial transition metal carbide films and superlattices by simultaneous direct current metal magnetron sputtering and C-60 evaporation
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.ORCID-id: 0000-0002-2837-3656
Visa övriga samt affilieringar
2001 (Engelska)Ingår i: Journal of Materials Research, ISSN 0884-2914, E-ISSN 2044-5326, Vol. 16, nr 3, s. 633-643Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

Thin epitaxial TiC and VC films and superlattices have been deposited on MgO(001) by simultaneous sputtering of the metals and evaporation of C-60. It was found that epitaxial growth conditions for TiC could be maintained down to a temperature of 100 degreesC, while the epitaxial growth of VC required 200 degreesC, Epitaxial VC films were completely relaxed at all growth temperatures, while a change from a relaxed to a strained growth behavior was observed for TiC films. The structural quality of the TiC films was better than for the VC films. A general observation was that a plasma-assisted deposition process yields films with a higher quality and allows epitaxial growth at lower temperatures than for a pure coevaporation process.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2001. Vol. 16, nr 3, s. 633-643
Nationell ämneskategori
Teknik och teknologier
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-49340OAI: oai:DiVA.org:liu-49340DiVA, id: diva2:270236
Tillgänglig från: 2009-10-11 Skapad: 2009-10-11 Senast uppdaterad: 2017-12-12

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Personposter BETA

Högberg, HansBirch, JensHultman, Lars

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Högberg, HansBirch, JensHultman, Lars
Av organisationen
Tekniska högskolanTunnfilmsfysik
I samma tidskrift
Journal of Materials Research
Teknik och teknologier

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 204 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf