liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Thermal Stability and Phase Transformations of γ-/Amorphous-Al2O3 Thin Films
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0003-1785-0864
Interdisciplinary Nanoscience Center (iNANO) and Department of Physics and Astronomy, University of Aarhus, DK-800 Aarhus C, Denmark.
Interdisciplinary Nanoscience Center (iNANO) and Department of Physics and Astronomy, University of Aarhus, DK-800 Aarhus C, Denmark.
Interdisciplinary Nanoscience Center (iNANO) and Department of Physics and Astronomy, University of Aarhus, DK-800 Aarhus C, Denmark.
2009 (Engelska)Ingår i: Plasma processes and polymers, ISSN 1612-8850, Vol. 6, nr 1, s. 907-911Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

Magnetron-sputtered Al2O3 thin films were annealed in ambient air. The phase compositions of the as-deposited Al2O3 films were (i) fully amorphous, (ii) nanocrystalline γ-Al2O3 in an amorphous Al2O3 matrix, and (iii) fully crystalline γ. For all samples, annealing to 1 100-1 150 °C resulted in a transformation to α-alumina. The transformation paths depend on the phase fraction of γ in the as-deposited films. For amorphous films and films with low initial γ fraction, the intermediate phase θ-Al2O3 appeared in the range of 1 000-1 100 °C. For predominantly crystalline γ-Al2O3 as-deposited films no intermediate Al2O3 phases were observed, indicating a direct γ-to-α phase transformation at ≈1 100 °C.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Wiley , 2009. Vol. 6, nr 1, s. 907-911
Nyckelord [en]
annealing, atomic force microscopy (AFM), faceting, sputtering, X-ray diffraction (XRD)
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-52722DOI: 10.1002/ppap.200932301OAI: oai:DiVA.org:liu-52722DiVA, id: diva2:285264
Tillgänglig från: 2010-01-11 Skapad: 2010-01-11 Senast uppdaterad: 2015-01-13

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Eklund, Per

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Eklund, Per
Av organisationen
TunnfilmsfysikTekniska högskolan
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 179 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf