liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Mitigating the geometrical limitations of conventional sputtering by controlling the ion-to-neutral ratio during high power pulsed magnetron sputtering
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0002-4898-5115
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0002-2837-3656
2011 (Engelska)Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 519, nr 19, s. 6354-6361Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

High power pulsed magnetron sputtering has been used to grow thin chromium layers on substrates facing and orthogonal to the target. It is demonstrated that at low peak target current density, j(T)less than0.6 A/cm(2) corresponding to a low ion-to-neutral flux ratio, films grown on substrates facing the target exhibit in-plane alignment. This is due to the rectangular shape of the target that yields an asymmetry in the off-normal flux of sputtered species. With increasing j(T) the biaxial alignment degrades, as the major portion of the incoming flux (ions) can be effectively steered by the electric field of the substrate to remove asymmetry imposed by geometrical restrictions. Eventually, at j(T)=1.7 A/cm(2) a fiber texture is obtained. For films grown on substrates orthogonal to the target, the large column tilt characteristic for growth at low j(T), decreases with increasing ion content in the flux and almost disappears at the highest value of j(T). The latter indicates that material flux to the substrate is highly ionized so that deposition takes place along substrate normal despite the high nominal inclination angle. Thus, in the limit of high j(T) the artifacts of conventional physical vapor deposition, resulting from the line-of-sight deposition, are effectively eliminated and the film growth proceeds more or less unaffected by the substrate orientation. Samples mounted orthogonally thus possess a similar texture, morphology, and topography as those facing the target.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Elsevier Science B.V., Amsterdam. , 2011. Vol. 519, nr 19, s. 6354-6361
Nyckelord [en]
High power impulse magnetron sputtering; High power pulsed magnetron sputtering; Chromium; Ionized physical vapor deposition
Nationell ämneskategori
Teknik och teknologier
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-69790DOI: 10.1016/j.tsf.2011.04.031ISI: 000292720000029OAI: oai:DiVA.org:liu-69790DiVA, id: diva2:433582
Anmärkning
Original Publication: Grzegorz Greczynski, Jens Jensen and Lars Hultman, Mitigating the geometrical limitations of conventional sputtering by controlling the ion-to-neutral ratio during high power pulsed magnetron sputtering, 2011, Thin Solid Films, (519), 19, 6354-6361. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.04.031 Copyright: Elsevier http://www.elsevier.com/ Tillgänglig från: 2011-08-10 Skapad: 2011-08-08 Senast uppdaterad: 2017-12-08

Open Access i DiVA

fulltext(1433 kB)639 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 1433 kBChecksumma SHA-512
dc2689ef8c4925172a6f93d84877ada206d3577cde3de8c5756f4ac5782b81429d00153024144154812b16cab9a826ac14f599bd7ac8a300a0cf475ac5d59a89
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Greczynski, GrzegorzJensen, JensHultman, Lars

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Greczynski, GrzegorzJensen, JensHultman, Lars
Av organisationen
Institutionen för fysik, kemi och biologiTekniska högskolanTunnfilmsfysik
I samma tidskrift
Thin Solid Films
Teknik och teknologier

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 639 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 270 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf