liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0003-2864-9509
2012 (Engelska)Ingår i: Journal of Materials Research, ISSN 0884-2914, E-ISSN 2044-5326, Vol. 27, nr 5, s. 780-792Artikel, forskningsöversikt (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

High-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is a promising sputtering-based ionized physical vapor deposition technique and is already making its way to industrial applications. The major difference between HiPIMS and conventional magnetron sputtering processes is the mode of operation. In HiPIMS the power is applied to the magnetron (target) in unipolar pulses at a low duty factor (andlt;10%) and low frequency (andlt;10 kHz) leading to peak target power densities of the order of several kilowatts per square centimeter while keeping the average target power density low enough to avoid magnetron overheating and target melting. These conditions result in the generation of a highly dense plasma discharge, where a large fraction of the sputtered material is ionized and thereby providing new and added means for the synthesis of tailor-made thin films. In this review, the features distinguishing HiPIMS from other deposition methods will be addressed in detail along with how they influence the deposition conditions, such as the plasma parameters and the sputtered material, as well as the resulting thin film properties, such as microstructure, phase formation, and chemical composition. General trends will be established in conjunction to industrially relevant material systems to present this emerging technology to the interested reader.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Cambridge University Press (CUP) / Materials Research Society , 2012. Vol. 27, nr 5, s. 780-792
Nationell ämneskategori
Teknik och teknologier
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-78284DOI: 10.1557/jmr.2012.8ISI: 000304064500004OAI: oai:DiVA.org:liu-78284DiVA, id: diva2:531813
Anmärkning
Funding Agencies|Swedish Research Council (VR)|623-2009-7348|Tillgänglig från: 2012-06-08 Skapad: 2012-06-08 Senast uppdaterad: 2017-12-07

Open Access i DiVA

fulltext(773 kB)3249 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 773 kBChecksumma SHA-512
4c86b901a844056b4d015f513c88be825492f06af470e0a14f9b5e1edb743df390220a6f901fdff8f64befa6adc77221df22169a23b3c4ffa2240bfadc2078a3
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Lundin, DanielSarakinos, Kostas

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Lundin, DanielSarakinos, Kostas
Av organisationen
Plasma och beläggningsfysikTekniska högskolan
I samma tidskrift
Journal of Materials Research
Teknik och teknologier

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 3249 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 358 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf