liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Asymmetric interface broadening in epitaxial Mo/W (001) superlattices grown by magnetron sputtering
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Visa övriga samt affilieringar
1998 (Engelska)Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, ISSN 0734-2101, E-ISSN 1520-8559, Vol. 16, nr 2, s. 633-638Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

The interfacial structure in epitaxial Mo/W(001) superlattices, grown by magnetron sputtering on MgO(001) substrates has been studied. The films were grown in Ar and Kr discharges at a substrate temperature of 700 degrees C, and the as-deposited samples were analyzed by x-ray diffraction and found to be epitaxial with no high-angle grain boundaries. The degree of interfacial intermixing, caused by fluxes of different energetic species impinging on the growth surface, was estimated using a combination of Monte Carlo binary collision computer codes and a gas scattering computational model. In the Ar discharge case, large asymmetries in the Mo/W and W/Mo interfaces were found, with the W/Mo interface being more than a factor of 2 broader than the Mo/W interface. Simulations of x-ray reflectivity curves using the calculated interface profiles as input parameters without any additional fitting parameters agreed very well with measured data. The overall good fit between the calculated and measured reflectivity curves using the calculated compositional profiles is an indicator that the growth simulations using TRIM based codes provides interface profiles that are reasonably accurate, which can be used as a starting point for further refinements of the details of the interface structures. (C) 1998 American Vacuum Society.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
American Institute of Physics (AIP), 1998. Vol. 16, nr 2, s. 633-638
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-105978DOI: 10.1116/1.581080OAI: oai:DiVA.org:liu-105978DiVA, id: diva2:712798
Tillgänglig från: 2014-04-16 Skapad: 2014-04-15 Senast uppdaterad: 2017-12-05Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Birch, JensIvanov, IvanMünger, Peter

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Birch, JensIvanov, IvanMünger, Peter
Av organisationen
TunnfilmsfysikTekniska högskolan
I samma tidskrift
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 185 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf