liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Peak amplitude of target current determines deposition rate loss during high power pulsed magnetron sputtering
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.ORCID-id: 0000-0002-4898-5115
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.ORCID-id: 0000-0002-2837-3656
2016 (Engelska)Ingår i: Vacuum, ISSN 0042-207X, E-ISSN 1879-2715, Vol. 124Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Resurstyp
Text
Abstract [en]

Film growth rates during DCMS and HIPIMS sputtering in Ar are measured for ten technologically relevant elemental target materials: Al, Si, Ti, Cr, Y, Zr, Nb, Hf, Ta, and W, spanning wide range of masses, ionization energies, and sputter yields. Surprisingly, the ratio of power-normalized HIPIMS and DCMS rates a decays exponentially with increasing peak target current density J(T)(max) for all metals. The effect of J(T)(max) on alpha is dramatic: alpha approximate to 1 in the limit of lowest J(T)(max) values tested (0.04 A/cm(2)) and decreases to only 0.12 with J(T)(max) similar to 3 A/cm(2). With the exception of Al and Si, alpha(J(T)(max)) curves overlap indicating that the debated rate loss in HIPIMS is to large extent determined by the peak amplitude of the HIPIMS target current for all tested metals. Back attraction of ionized target species is responsible for such large variation in a. (C) 2015 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD , 2016. Vol. 124
Nyckelord [en]
HIPIMS; Growth rate; Deposition rate; Magnetron sputtering; Ionized PVD
Nationell ämneskategori
Fysik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-125682DOI: 10.1016/j.vacuum.2015.11.004ISI: 000369200400001OAI: oai:DiVA.org:liu-125682DiVA, id: diva2:908210
Tillgänglig från: 2016-03-01 Skapad: 2016-02-29 Senast uppdaterad: 2017-11-30

Open Access i DiVA

fulltext(404 kB)89 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 404 kBChecksumma SHA-512
bbd71aa481efef2186d38c46602d9db6c4bbc32f0249c2952c4720bb4c89b9705ecef279ec959a5cb902db6f897a8086fd7588c52169c8ec820529384717b580
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Personposter BETA

Greczynski, GrzegorzHultman, Lars

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Greczynski, GrzegorzHultman, Lars
Av organisationen
TunnfilmsfysikTekniska fakulteten
I samma tidskrift
Vacuum
Fysik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 89 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 1227 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf