liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
1 - 26 av 26
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 1.
    Alami, Jones
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Eklund, Per
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Andersson, Jon M.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Wallin, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Böhlmark, Johan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Persson, Per
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Phase tailoring of Ta thin films by highly ionized pulsed magnetron sputtering2007Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 515, nr 7-8, s. 3434-3438Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Ta thin films were grown on Si substrates at different inclination angles with respect to the sputter source using high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS), an ionized physical vapor deposition technique. The ionization allowed for better control of the energy and directionality of the sputtered species, and consequently for improved properties of the deposited films. Depositions were made on Si substrates with the native oxide intact. The structure of the as deposited films was investigated using X-ray diffraction, while a four-point probe setup was used to measure the resistivity. A substrate bias process-window for growth of bcc-Ta was observed. However, the process-window position changed with changing inclination angles of the substrate. The formation of this low-resistivity bcc-phase could be understood in light of the high ion flux from the HIPIMS discharge.

  • 2.
    Böhlmark, Johan
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gudmundsson, J. T.
    Alami, Jones
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Spatial electron density distribution in a high-power pulsed magnetron discharge2005Ingår i: IEEE Transactions on Plasma Science, ISSN 0093-3813, E-ISSN 1939-9375, Vol. 33, nr 2, s. 346-347Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The spatial electron density distribution was measured as function of time in a high-power pulsed magnetron discharge. A Langmuir probe was positioned in various positions below the target and the electron density was mapped out. We recorded peak electron densities exceeding 1019 m-3 in a close vicinity of the target. The dynamics of the discharge showed a dense plasma expanding from the "race-track" axially into the vacuum chamber. We also record electrons trapped in a magnetic bottle where the magnetron magnetic field is zero, formed due to the unbalanced magnetron.

  • 3.
    Böhlmark, Johan
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gudmundsson, J.T.
    Department of Electrical and Computer Engineering, University of Iceland, Reykjavik, Iceland; and Science Institute, University of Iceland, Reykjavik, Iceland.
    Ehiasarian, A.P.
    Materials and Engineering Research Institute, Sheffield Hallam University, Sheffield, UK.
    Aranda Gonzalvo, Y.
    Hiden Analytical Ltd., Warrington, UK.
    Brenning, N.
    Division of Plasma Physics, Alfvén Laboratory, Royal Institute of Technology, Stockholm, Sweden.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    The ion energy distributions and ion flux composition from a high power impulse magnetron sputtering discharge2006Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 515, nr 4, s. 1522-1526Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The energy distribution of sputtered and ionized metal atoms as well as ions from the sputtering gas is reported for a high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) discharge. High power pulses were applied to a conventional planar circular magnetron Ti target. The peak power on the target surface was 1-2 kW/cm2 with a duty factor of about 0.5 %. Time resolved, and time averaged ion energy distributions were recorded with an energy resolving quadrupole mass spectrometer. The ion energy distributions recorded for the HIPIMS discharge are broader with maximum detected energy of 100 eV and contain a larger fraction of highly energetic ions (about 50 % with Ei > 20 eV) as compared to a conventional direct current magnetron sputtering discharge. The composition of the ion flux was also determined, and reveals a high metal fraction. During the most intense moment of the discharge, the ionic flux consisted of approximately 50 % Ti1+, 24 % Ti2+, 23 % Ar1+, and 3 % Ar2+ ions.

  • 4.
    Böhlmark, Johan
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Stranning, H.
    Selinder, T.
    AB Sandvik Tooling.
    Carlsson, J.
    Chemfilt Ionsputtering AB.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Reactive Film Growth of TiN by Using High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS)2006Ingår i: Society of Vacuum Coaters, 49th Annual Technical Conference Proceedings,2006, 2006, s. 334-337Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 5.
    Böhlmark, Johan
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Östbye, M.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ljungcrantz, H.
    Impact Coatings AB, Sweden.
    Rosell, T.
    Impact Coatings AB, Sweden.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Guiding the deposition flux in an ionized magnetron discharge2006Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 515, nr 4, s. 1928-1931Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A study of the ability to control the deposition flux in a high power impulse magnetron sputtering discharge using an external magnetic field is presented in this article. Pulses with peak power of 1.4 kWcm-2 were applied to a conventional planar magnetron equipped with an Al target. The high power creates a high degree of ionization of the sputtered material, which opens for an opportunity to control of the energy and direction of the deposition species. An external magnetic field was created with a current carrying coil placed in front of the target. To measure the distribution of deposition material samples were placed in an array surrounding the target and the depositions were made with and without the external magnetic field. The distribution is significantly changed when the magnetic field is present. An increase of 80 % in deposition rate is observed for the sample placed in the central position (right in front of the target center) and the deposition rate is strongly decreased on samples placed to the side of the target. The measurements were also performed on a conventional direct current magnetron discharge, but no major effect of the magnetic field was observed in that case.

  • 6.
    Helmersson, Ulf
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Ahlberg, Martina
    IFM Linköping university.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    The effect on film microstructure from the use of energetic deposition by HIPIMS2007Ingår i: SVC Annual Technical Conference,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 7.
    Helmersson, Ulf
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Alami, Jones
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Böhlmark, Johan
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Ehiasarian, A.P.
    Sheffield Hallam University.
    Gudmundsson, J.T.
    University of Iceland.
    Highly Ionized Sputter Discharges for Thin Film Fabrication2006Ingår i: Bulletin of the Russian Academy of Sciences. Physics, ISSN 1062-8738, Vol. 70, nr 8, s. 1421-1424Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 8.
    Helmersson, Ulf
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Böhlmark, Johan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ehiasarian, Arutiun P.
    Materials and Engineering Research Institute, Sheffield Hallam University, Sheffield, UK.
    Gudmundsson, Jon Tomas
    Department of Electrical and Computer Engineering, University of Iceland, Reykjavik, Iceland and Science Institute, University of Iceland, Reykjavik, Iceland.
    Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications2006Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 513, nr 1-2, s. 1-24Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    In plasma-based deposition processing, the importance of low-energy ion bombardment during thin film growth can hardly be exaggerated. Ion bombardment is an important physical tool available to materials scientists in the design of new materials and new structures. Glow discharges and in particular the magnetron sputtering discharge have the advantage that the ions of the discharge are abundantly available to the deposition process. However, the ion chemistry is usually dominated by the ions of the inert sputtering gas while ions of the sputtered material are rare. Over the past few years, various ionized sputtering techniques have appeared that can achieve a high degree of ionization of the sputtered atoms, often up to 50 % but in some cases as much as approximately 90%. This opens a complete new perspective in the engineering and design of new thin film materials. The development and application of magnetron sputtering systems for ionized physical vapor deposition (IPVD) is reviewed. The application of a secondary discharge, inductively coupled plasma magnetron sputtering (ICP-MS) and microwave amplified magnetron sputtering, is discussed as well as the high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS), the self-sustained sputtering (SSS) magnetron, and the hollow cathode magnetron (HCM) sputtering discharges. Furthermore, filtered arc-deposition is discussed due to its importance as an IPVD technique. Examples of the importance of the IPVD-techniques for growth of thin films with improved adhesion, improved microstructures, improved coverage of complex shaped substrates, and increased reactivity with higher deposition rate in reactive processes are reviewed.

  • 9.
    Helmersson, Ulf
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Wallin, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Hysteresis-free reactive deposi-tion of alpha-Al2O3 using high HIPIMS2007Ingår i: HIPIMS ABS-Days Conference,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 10.
    Helmersson, Ulf
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Wallin, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Reactive High Power Impulse Magnetron Sputter Deposition of Alumina2007Ingår i: AVS 54th International Symposium,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 11.
    Jädernäs, Daniel
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Interface engineering and surface pretreatment utilizing ionized PVD2007Ingår i: International Vacuum Congress,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

      

  • 12.
    Jädernäs, Daniel
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Interface engineering and surface pretreatment utilizing ionized PVD2007Ingår i: Symposium on Ionized Physical Vapor Deposition,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 13.
    Jädernäs, Daniel
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Interface investigation of steel substrates pretreated by high power impulse magnetron sputtering2007Ingår i: AVS 54th International Symposium,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 14.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Effect of adspecies flux on texture and structure evolution in TiN thin films deposited by pulsed i-PVD2007Ingår i: Symposium on Ionized Physical Vapor Deposition,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 15.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS)2007Ingår i: International Symposium on Reactive Sputter Deposition,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

     High power impulse magnetron sputtering is an area presently under active and rapid development. Pulsing the power at low duty cycles allows for instantaneous high power levels to be used, causing the plasma to enter a new operating regime. Thus a plasma with a high plasma density is achieved increasing the ionization level of the sputtered material. This opens for several improvements in the deposition process in terms of the particle transport and alignment of the deposition flux as well as in the nucleation and growth of the film. The talk will highlight important aspects of process understanding and opportunities for improved process control and film growth. Examples from technologically relevant applications will be discussed. E.g., for low temperature growth of TiN it was shown that the intrinsic energy of the depositing species with energies exceeding values of 20~eV is sufficient for improved film quality. Moreover, biasing of the substrate during film deposition in pulsed mode provides an effective tool allowing growth under controlled ion impact conditions not normally available in a sputtering plasma and previously only available in cathodic arc plasmas. Ion impacts can be utilized - besides for controlling the film morphology and intrinsic stresses - for substrate cleaning and surface modification by ion implantation promoting epitaxial growth and good adhesion. In addition, results demonstrating an improvement in the stability of reactive sputtering processes by HIPIMS will be presented.

  • 16.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Physics of High Power Impulse Magnetron Sputtering2008Ingår i: 15th Gaseous Electronics Meeting,2008, 2008Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

      

  • 17.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ehiasarian, A.P.
    Materials Research Institute, Sheffield Hallam University, United Kingdom.
    Böhlmark, Johan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Persson, Per .Å.O.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Investigation of high power impulse magnetron sputtering pretreated interfaces for adhesion enhancement of hard coatings on steel2006Ingår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 200, nr 22-23, s. 6495-6499Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    In order to improve the adhesion of hard coatings such as CrN, a surface pretreatment by the novel high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) technique followed by reactive unbalanced d.c. magnetron sputtering deposition was performed using a Cr target. The HIPIMS plasma comprising a high metal ion-to-neutral ratio consisting of single- and double-charged metal species identified by mass spectrometry increased the metal ion flux to the substrate. When applying a negative substrate bias Ub the adhesion was enhanced due to sputter cleaning of the surface and metal ion intermixing in the interface region. This intermixing, resulting in a gradual change of the composition, is considered to enhance the adhesion of the hard coatings on steel substrates. The pretreatment was carried out in an inert gas atmosphere at a pressure of pAr = 1 mTorr, the duration was varied between 25 and 75 min, whereas the negative substrate bias was varied between 400 V and 1200 V. The adhesion was found to depend on the substrate bias as well as on the target power and, for low substrate bias, on the duration of the pretreatment. For CrN the critical load of failure determined by scratch test could be increased in comparison to the values reported for specimens pretreated by conventional Ar etching. The influence of the target peak voltage, the substrate bias as well as pretreatment time on the constitution and morphology of the interface after the pretreatment is discussed applying analytical transmission electron microscopy.

  • 18.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Effect of adspecies flux on texture and structure evolution in TiN thin films deposited by pulsed i-PVD2007Ingår i: International Vacuum Congress,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 19.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    HIPIMS I-PVD the easy way?2007Ingår i: Symposium on Vacuum Based Science and Technology,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 20.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Ulrich, S.
    Forschungszentrum Karlsruhe.
    Investigation of structure and mechanical properties of magnetron sputtered monolayer and multilayer coatings in the ternary system Si-B-C2007Ingår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 201, nr 9-11 SPEC. ISS., s. 5564-5569Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    In the present work SiC and B4C monolayers as well as SiC/B4C multilayer coatings have been investigated with respect to their composition and mechanical properties. The coatings have been deposited on silicon substrates and polished cemented carbide inserts by non-reactive dual radio frequency (r.f.) magnetron sputtering from stoichiometric, high-purity silicon carbide (99.5%) and boron carbide (99.9%) targets. Amorphous stoichiometric SiC and B4C have been achieved with high hardness of 2950 HV0.01 and 4160 HV0.01 with a residual stress of - 3.4 GPa and - 2.9 GPa, respectively. The number of monolayers in the multilayer system with a constant total layer thickness has been varied in order to investigate the influence of the number of interfaces on film composition and properties. Additionally, the monolayer thickness ratio for a constant modulation period (double layer thickness) was varied. In this multilayer system no notable hardness enhancement could be observed. Despite the absence of the hardness enhancement, the toughness is expected to be enhanced due to stress relaxation and a reduction of crack propagation by crack dissipation along the interfaces. An abrupt interface is considered to be an indispensable requirement. However, the strain fields and the difference of the mechanical properties in the interfacial region are also of importance. © 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.

  • 21.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Ulrich, S.
    Forschungszentrum Karlsruhe.
    Ye, J.
    Forschungszentrum Karlsruhe.
    New approach in depositing thick, layered cubic boron nitride coatings by oxygen addition-structural and compositional analysis2006Ingår i: Thin solid films : an international journal on the science and technology of thin and thick films, ISSN 0040-6090, Vol. 515, nr 3, s. 1058-1062Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Cubic boron nitride (c-BN) can be produced by PVD and PA-CVD techniques by intensive ion bombardment leading to highly stressed films limiting its use in industrial applications. Various attempts have been undertaken to reduce the compressive stress of c-BN thin films. A significant reduction in compressive stress and a substantially improved adhesion was achieved by a new coating concept consisting of a two-step adhesion-promoting base layer, a compositional-graded nucleation layer obtained by a stepwise decrease of the oxygen content in the Ar/N2/O2 atmosphere and a low-stressed c-BN:O top layer with controlled oxygen addition. The four-layer c-BN:O film with a thickness of 3 ìm was deposited by unbalanced radio frequency magnetron sputtering of a hot-pressed hexagonal boron nitride target on silicon substrates. The adhesion layer was deposited in a mixed Ar/O2 atmosphere of 0.26 Pa with a stepwise increased nitrogen gas flow and a subsequent increase of the ion energy by increasing the substrate bias from 0 to − 250 V. The c-BN nucleation was gradually initiated by decreasing the O2 gas flow. The present study was focused on the investigation of the morphology, the microstructure on the nanoscale, and the bonding structure using scanning electron microscopy (SEM), Fourier-Transmission infra-red spectroscopy (FTIR), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and electron energy loss spectroscopy (EELS) employing analytical scanning transmission electron microscopy (ASTEM). The HRTEM images revealed a four-layer coating consisting of a gradual nucleation of t-BN, on which a gradual nucleation of c-BN was achieved by decreasing the oxygen gas flow.

  • 22.
    Lattemann, Martina
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Wallin, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Microstructure evolution in high power impulse magnetron sputtering deposited titanium nitride2007Ingår i: AVS 54th International Symposium,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 23. Lewin, E.
    et al.
    Persson, Per
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Stüber, M.
    Gorgoi, M.
    Sandell, A.
    Ziebert, C.
    Schäfers, F.
    Braun, W.
    Halbritter, J.
    Ulrich, S.
    Eberhardt, W.
    Hultman, Lars
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik.
    Siegbahn, H.
    Svensson, S.
    Jansson, U.
    On the origin of a third spectral component of C1s XPS-spectra for nc-TiC/a-C nanocomposite thin films2008Ingår i: Surface & Coatings Technology, ISSN 0257-8972, E-ISSN 1879-3347, Vol. 202, nr 15, s. 3563-3570Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) spectra of sputter-etched nc-TiC/a-C nanocomposite thin films published in literature show an extra feature of unknown origin in the C1s region. This feature is situated between the contributions of carbide and the carbon matrix. We have used high kinetic energy XPS (HIKE-XPS) on magnetron-sputtered nc-TiC/a-C thin films to show that this feature represents a third chemical environment in the nanocomposites, besides the carbide and the amorphous carbon. Our results show that component is present in as-deposited samples, and that the intensity is strongly enhanced by Ar+-ion etching. This third chemical environment may be due to interface or disorder effects. The implications of these observations on the XPS analysis of nanocomposites are discussed in the light of overlap problems for ternary carbon based systems. © 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.

  • 24.
    Lundin, Daniel
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Larsson, Petter
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Wallin, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Brenning, Nils
    Royal Institute of Technology, Stockholm.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Cross-field ion transport during high power impulse magnetron sputtering2008Ingår i: Plasma Sources Science and Technology, ISSN 0963-0252, Vol. 17, nr 035021Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    In this study, the effect on thin film growth due to an anomalous electron transport, found in high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS), has been investigated for the case of a planar circular magnetron. An important consequence of this type of transport is that it affects the way ions are being transported in the plasma. It was found that a significant fraction of ions are transported radially outwards in the vicinity of the cathode, across the magnetic field lines, leading to increased deposition rates directly at the side of the cathode (perpendicular to the target surface). Furthermore, this mass transport parallel to the target surface leads to that the fraction of sputtered material reaching a substrate placed directly in front of the target is substantially lower in HiPIMS compared with conventional direct current magnetron sputtering (dcMS). This would help to explain the lower deposition rates generally observed for HiPIMS compared with dcMS. Moreover, time-averaged mass spectrometry measurements of the energy distribution of the cross-field transported ions were carried out. The measured distributions show a direction-dependent high-energy tail, in agreement with predictions of the anomalous transport mechanism.

  • 25.
    Wallin, Erik
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Andersson, Jon Martin
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Influence of residual water on magnetron sputter deposited crystalline Al2O3 thin films2008Ingår i: Thin Solid Films, ISSN 0040-6090, E-ISSN 1879-2731, Vol. 516, nr 12, s. 3877-3883Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The effects of residual water on the phase formation, composition, and microstructure evolution of magnetron sputter deposited crystalline alumina thin films have been investigated. To mimic different vacuum conditions, depositions have been carried out with varying partial pressures of H2O. Films have been grown both with and without chromia nucleation layers. It is shown that films deposited onto chromia nucleation layers at relatively low temperatures (500 °C) consists of crystalline alpha-alumina if deposited at a low enough total pressure under ultra high vacuum (UHV) conditions. However, as water was introduced a gradual increase of the gamma phase content in the film with increasing film thickness was observed. At the same time, the microstructure changed drastically from a dense columnar structure to a structure with small, equiaxed grains. Based on mass spectrometry measurements and previous ab initio calculations, we suggest that either bombardment of energetic negative (or later neutralized) species being accelerated over the target sheath voltage, adsorbed hydrogen on growth surfaces, or a combination of these effects, is responsible for the change in structure. For films containing the metastable gamma phase under UHV conditions, no influence of residual water on the phase content was observed. The amounts of hydrogen incorporated into the films, as determined by elastic recoil detection analysis, were shown to be low. Overall, the results demonstrate that residual water present during film growth drastically affects film properties, also in cases where the hydrogen incorporation is found to be low.

  • 26.
    Wallin, Erik
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Svedin, S
    IFM Linköpings universitet.
    Lattemann, Martina
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Helmersson, Ulf
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik.
    Deposition of crystalline alumina by reactive high power impulse magnetron sputtering2007Ingår i: International Vacuum Congress,2007, 2007Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
1 - 26 av 26
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf