liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
Avgränsa sökresultatet
1234567 101 - 150 av 575
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Träffar per sida
  • 5
  • 10
  • 20
  • 50
  • 100
  • 250
Sortering
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
  • Standard (Relevans)
  • Författare A-Ö
  • Författare Ö-A
  • Titel A-Ö
  • Titel Ö-A
  • Publikationstyp A-Ö
  • Publikationstyp Ö-A
  • Äldst först
  • Nyast först
  • Skapad (Äldst först)
  • Skapad (Nyast först)
  • Senast uppdaterad (Äldst först)
  • Senast uppdaterad (Nyast först)
  • Disputationsdatum (tidigaste först)
  • Disputationsdatum (senaste först)
Markera
Maxantalet träffar du kan exportera från sökgränssnittet är 250. Vid större uttag använd dig av utsökningar.
  • 101. Ellison, A
    et al.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Storasta, Liutauras
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    HTCVD grown semi-insulating SiC substrates2003Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 433-436, 2003, Vol. 433-4, s. 33-38Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The low residual doping of HTCVD grown semi-insulating SiC crystals enables the use of decreased concentrations of compensating deep levels, thereby providing new material solutions for microwave devices. Depending on the growth conditions, high resistivity crystals with either a dominating Si-vacancy absorption or with an EPR signature of intrinsic defects such as the C-vacancy and the Si-antisite are obtained. The electrical properties of substrates with resistivities above 10(11) Omega-cm are shown to be stable upon annealing during SiC epitaxy conditions. Micropipe closing at the initial growth stage enables the demonstration of low defect density off- and on-axis 2 2-inch semi-insulating 4H SiC substrates with micropipe densities down to 1.2 cm(-2).

  • 102. Ellison, A
    et al.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Sundqvist, B
    Pozina, Galia
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Bergman, Peder
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Vehanen, A
    SiC crystal growth by HTCVD2004Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 457-460, 2004, Vol. 457-460, s. 9-Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Advances in the development of the HTCVD technique for growth of bulk 2-inch diameter 4H SiC crystals are reviewed with demonstration of micropipe density down to 0.3 cm(-2), low crystal bending and X-ray rocking curve widths of 12". High Al doping in p-type substrates enables resistivities down to 0.5 Omega cm without increased micropipe density, while too high N doping causes spontaneous stacking faults formation in annealed n-type substrates. High purity semi-insulating wafers, grown under conditions reducing the incorporation of Si-vacancies, exhibit lower density of vacancy clusters and better properties for microwave device applications.

  • 103. Ellison, A.
    et al.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    High Resistivity Silicon Carbide Single Crystal2003Patent (Övrig (populärvetenskap, debatt, mm))
  • 104. Ellison, A.
    et al.
    Zhang, J.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Epitaxial growth of SiC in a chimney CVD reactor2002Ingår i: Journal of Crystal Growth, ISSN 0022-0248, E-ISSN 1873-5002, Vol. 236, nr 1-3, s. 225-238Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A high growth rate (>10 µm/h) Chemical Vapour Deposition (CVD) process is investigated in a vertical hot-wall, or "chimney", reactor. By the use of increased temperatures (1650-1850°C) and concentrations of reactants, this process is shown to enable growth rates up to 50µm/h and demonstrates a material quality comparable to established CVD techniques until growth rates of 25 µm/h. The gas flow dynamics, the growth rate and the thickness uniformity determining steps are investigated, and the role of homogenous nucleation is analysed. The growth rate is shown to be influenced by two competing processes: the supply of growth species and the etching of the hydrogen carrier gas. The exponential increase of the growth rate with temperature is related to a Si-vapour release from clusters homogeneously nucleated in the inlet of the susceptor and acting as a growth species reservoir. © 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

  • 105.
    Ellison, A
    et al.
    Linkoping Univ, IFM, SE-58183 Linkoping, Sweden Linkoping Univ, Okmetic AB, SE-58183 Linkoping, Sweden ABB Corp Res, SE-72178 Vasteras, Sweden.
    Zhang, J
    Magnusson, W
    Linkoping Univ, IFM, SE-58183 Linkoping, Sweden Linkoping Univ, Okmetic AB, SE-58183 Linkoping, Sweden ABB Corp Res, SE-72178 Vasteras, Sweden.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Wahab, Qamar Ul
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Bergman, Peder
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Hemmingsson, Carl
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Fast SiC epitaxial growth in a chimney CVD reactor and HTCVD crystal growth developments2000Ingår i: Materials science Forum, Vols. 338-342, Trans Tech Publications Inc., 2000, Vol. 338-3, s. 131-136Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The epitaxial growth of SiC is investigated in a CVD process based on a vertical hot-wall, or "chimney", reactor geometry. Carried out at increased temperatures (1650 to 1850 degreesC) and concentrations of reactants, the growth process enables epitaxial rates ranging from 10 to 50 mum/h. The growth rate is shown to be influenced by two competing processes: the supply of growth species in the presence of homogeneous gas-phase nucleation, and, the etching effect of the hydrogen carrier gas. The quality of thick (20 to 100 mum) low-doped 4H-SiC epitaxial layers grown at rates ranging between 10 and 25 mum/h are discussed in terms of thickness uniformity, surface morphology and purity. The feasibility of high voltage Schottky rectifiers (V-BR from 2 to similar to3.8 kV) on as-grown chimney CVD epilayers is reported. In a second part, recent developments of the High Temperature Chemical Vapor Deposition (HTCVD) technique for SiC crystal growth are described. Using pure gases (SiH4 and C2H4) as source material and growth temperatures of 2100-2300 degreesC, this technique enables at present growth rates ranging from 0.4 to 0.8 mm/h. 6H and 4H-SiC crystals of thickness up to 7 mm and diameters up to 40 mm have been grown. We report micropipe densities of similar to 80 cm(-2) over areas of 0.5 cm(2) in 35 mm diameter 4H-SiC wafers sliced from HTCVD grown crystals. Undoped wafer demonstrators exhibit semi-insulating behavior with a bulk resistivity higher than 7.10(9) Omega cm at room temperature.

  • 106.
    Engelbrecht, J A A
    et al.
    Nelson Mandela Metropolitan University.
    van Rooyen, I J
    Nelson Mandela Metropolitan University.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Olivier, E J
    Nelson Mandela Metropolitan University.
    The origin of a peak in the reststrahlen region of SiC2012Ingår i: Physica. B, Condensed matter, ISSN 0921-4526, E-ISSN 1873-2135, Vol. 407, nr 10, s. 1525-1528Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A peak in the reststrahlen region of SiC is analyzed in order to establish the origin of this peak. The peak can be associated with a thin damaged layer on the SiC wafers, and a relation is found between surface roughness and the height of this peak, by modeling the damaged layer as an additional layer when simulating the reflectivity from the wafers.

  • 107.
    Engelbrecht, J. A. A.
    et al.
    Nelson Mandela Metropolitan University, South Africa.
    van Rooyen, I. J.
    Idaho National Lab, ID 83415 USA.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Sephton, B.
    Nelson Mandela Metropolitan University, South Africa.
    Notes on the plasma resonance peak employed to determine doping in SiC2015Ingår i: Infrared physics & technology, ISSN 1350-4495, E-ISSN 1879-0275, Vol. 72, s. 95-100Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The doping level of a semiconductor material can be determined using the plasma resonance frequency to obtain the carrier concentration associated with doping. This paper provides an overview of the procedure for the three most common polytypes of SiC. Results for 3C-SiC are presented and discussed. In phosphorus doped samples analysed, it is submitted that the 2nd plasma resonance cannot be detected due to high values of the free carrier damping constant gamma. (C) 2015 Elsevier B.V. All rights reserved.

  • 108.
    Engelbrecht, J.A. A.
    et al.
    Nelson Mandela Metropolitan University, South Africa .
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    van Rooyen, I.J.
    Idaho National Lab, ID 83415 USA .
    Impact of dielectric parameters on the reflectivity of 3C-SiC wafers with a rough surface morphology in the reststrahlen region2014Ingår i: Physica. B, Condensed matter, ISSN 0921-4526, E-ISSN 1873-2135, Vol. 439, s. 115-118Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A layer-on-substrate model is used to obtain the infrared reflectance for 3C-SiC with a rough surface morphology. The effect of varying dielectric parameters of the "damaged layer" on the observed reflectivity of the 3C-SiC in the reststrahlen region is assessed. Different simulated reflectance spectra are obtained to those if the dielectric parameters of the "substrate" were varied. Most notable changes in the shape of the simulated reststrahlen peak are observed for changes in the high frequency dielectric constant, the phonon damping constant, the phonon frequencies and "thickness" of damaged surface layer.

  • 109.
    Eriksson, Jens
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Rorsman, N
    Zirath, H
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Ellison, A
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    A comparison of MESFETs on different 4H-Silicon carbide semi-insulating substrates2003Ingår i: Materials Science Forum Vols. 433-434, 2003, Vol. 433-4, s. 737-739Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    DC and RF measurements for MESFET devices fabricated on three different 4H-SiC Semi-Insulating (SI) substrates are compared in this paper and the epilayers were grown simultaneously for all three wafers. The different wafers were processed during the same batch run. The MESFETs processed on the high-purity wafers showed less light sensitivity than those processed on the Vanadium doped wafer.

  • 110.
    Eriksson, Martin. O.
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Hsu, Chih-Wei
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lundskog, Anders
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Karlsson, K. Fredrik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Bergman, Peder
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Holtz, Per-Olof
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    The Dynamics of Charged and Neutral Excitons in an InGaN Quantum Dot on a GaN PyramidManuskript (preprint) (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

    The neutral (X0) and negatively charged excitons (X-) in an InGaN QD on a GaN pyramid is studied by the timeintegrated micro-photoluminescence (μPL) and time-resolved micro-photoluminescence (TRμPL) microcopies. Both X0 and X- exhibit mono-exponential decay curves with fitted lifetimes of 310 and 140 ps, respectively. Neither energy shifts nor changes in the life times X0 and X- with increasing excitation power were observed, indicating the QD is small and free from the quantum confine Stark effect. The TRμPL is not only a powerful technique for studying the dynamics of exciton in QDXs, but also for the identification of exciton complexes in QDs.

  • 111.
    Fagerlind, M.
    et al.
    Chalmers.
    Allerstam, F.
    Chalmers.
    Sveinbjornsson, E.O.
    Chalmers.
    Rorsman, N.
    Chalmers.
    Kakanakova-Georgieva, Anelia
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Lundskog, Anders
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Forsberg, Urban
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Investigation of the interface between silicon nitride passivations and AlGaN/AlN/GaN heterostructures by C(V) characterization of metal-insulator-semiconductor-heterostructure capacitors2010Ingår i: Journal of Applied Physics, ISSN 0021-8979, E-ISSN 1089-7550, Vol. 108, nr 1, s. 014508-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Capacitance-voltage [C(V)] measurements of metal-insulator-semiconductor-heterostructure capacitors are used to investigate the interface between silicon nitride passivation and AlGaN/AlN/GaN heterostructure material. AlGaN/AlN/GaN samples having different silicon nitride passivating layers, deposited using three different deposition techniques, are evaluated. Different interface state distributions result in large differences in the C(V) characteristics. A method to extract fixed charge as well as traps from the C(V) characteristics is presented. Rough estimates of the emission time constants of the traps can be extracted by careful analysis of the C(V) characteristics. The fixed charge is positive for all samples, with a density varying between 1.3 x 10(12) and 7.1 x 10(12) cm(-2). For the traps, the peak density of interface states is varying between 16 x 10(12) and 31 x 10(12) cm(-2) eV(-1) for the three samples. It is concluded that, of the deposition methods investigated in this report, the low pressure chemical vapor deposited silicon nitride passivation shows the most promising results with regards to low densities of interface states.

  • 112.
    Fagerlind, Martin
    et al.
    Chalmers, Sweden .
    Booker, Ian Don
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Bergman, Peder
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Zirath, Herbert
    Chalmers, Sweden .
    Rorsman, Niklas
    Chalmers, Sweden .
    Influence of Large-Aspect-Ratio Surface Roughness on Electrical Characteristics of AlGaN/AlN/GaN HFETs2012Ingår i: IEEE transactions on device and materials reliability, ISSN 1530-4388, E-ISSN 1558-2574, Vol. 12, nr 3, s. 538-546Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The effect of large-aspect-ratio surface roughness of AlGaN/GaN wafers is investigated. The roughness has a surface morphology consisting of hexagonal peaks with maximum peak-to-valley height of more than 100 nm and lateral peak-to-peak distance between 25 and 100 mu m. Two epitaxial wafers grown at the same time on SiC substrates having different surface orientation and with a resulting difference in AlGaN surface roughness are investigated. Almost no difference is seen in the electrical characteristics of the materials, and the electrical uniformity of the rough material is comparable to that of the smoother material. The reliability of heterostructure field-effect transistors from both materials have been tested by stressing devices for up to 100 h without any significant degradation. No critical effect, from the surface roughness, on device fabrication is experienced, with the exception that the roughness will directly interfere with step-height measurements.

  • 113.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Birch, Jens
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tunnfilmsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    MacMillan, M. F.
    Persson, P. O. Å.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Growth of high quality AlN Epitaxial Films by Hot-Wall Chemical Vapour Deposition1998Ingår i: Proceedings of the International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, 1997, 1998, Vol. 264-268, s. 1133-1136Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Epitaxial films of high quality AlN have been grown on SiC substrates at 1200 °C and 1450 °C, using a hot-wall CVD reactor. The thickness of the epitaxial layers were measured using room temperature infrared reflectance. To verify the crystal quality, X-ray diffraction (XRD) rocking curves of the ALN 0002 peak were measured. A 250 Å thick film grown at 1450°C had a full width half maximum (FWHM) of 42 arcsec, whereas a 1000 Å thick film grown at 1200 °C had a FWHM of 100 arcsec. A TEM image of the sample grown at the lower temperature showed thickness of around 950 Å, thereby verifying the infrared reflectance measurements. We conclude that the higher temperature the better the crystal quality we obtain.

     

  • 114.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Danielsson, Örjan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Linnarsson, M. K.
    Solid State Electronics, Royal Institute of Technology, SE-164 40 Kista, Sweden.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Nitrogen doping of epitaxial Silicon Carbide2002Ingår i: Journal of Crystal Growth, ISSN 0022-0248, E-ISSN 1873-5002, Vol. 236, nr 1-3, s. 101-112Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Intentional doping with nitrogen of 4H- and 6H-SiC has been performed using a hot-wall CVD reactor. The nitrogen doping dependence on the temperature, pressure, C/Si ratio, growth rate and nitrogen flow has been investigated. The nitrogen incorporation for C-face material showed to be C/Si ratio independent, whereas the doping decreased with increasing C/Si ratio for the Si-face material in accordance with the “site-competition” model. The nitrogen incorporation was constant in a temperature “window” of 75°C on Si-face material indicating a mass transport limited incorporation. Increasing the growth rate resulted in a decrease of nitrogen incorporation on Si-face but an increase on C-face material. Finally, a comparison between previously published results on cold-wall CVD-grown material and the present hot-wall-grown material is presented.

  • 115.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Danielsson, Örjan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Linnarsson, M. K.
    Solid State Electronics, Royal Institute of Technology, SE-164 40, Kista, Sweden.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Aluminum doping of epitaxial Silicon Carbide2003Ingår i: Journal of Crystal Growth, ISSN 0022-0248, E-ISSN 1873-5002, Vol. 253, nr 1-4, s. 340-350Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Intentional doping of aluminum in 4H and 6H SiC has been performed using a hot-wall CVD reactor. The dependence of aluminum incorporation on temperature, pressure, C/Si ratio, growth rate, and TMA flow has been investigated. The aluminum incorporation showed to be polarity dependent. The high aluminum incorporation on the Si-face is closely related to the carbon coverage on the SiC surface. Changes in process parameters changes the effective C/Si ratio close to the SiC surface. Increased growth rate and C/Si ratio increases the aluminum incorporation on the Si-face. Diffusion limited incorporation occurs at high growth rate. Reduced pressure increases the effective C/Si ratio, and at low growth rate, the aluminum incorporation increases initially, levels off at a critical pressure, and continues to decrease below the critical pressure. The aluminum incorporation showed to be constant in a temperature range of 50°C. The highest atomic concentration of aluminum observed in this study was 3×1017 and 8×1018 cm−3 in Si and C-face, respectively.

  • 116.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Danielsson, Örjan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Linnarsson, MK
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Swedish Royal Institute of Technolology, Kista, Sweden.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Aluminum doping of epitaxial silicon carbide grown by hot-wall CVD, Effect of process parameters2002Ingår i: Proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, Tsukuba, 2001 / [ed] S. Yoshida, S. Nishino, H. Harima and T. Kimoto, 2002, Vol. 389-3, s. 203-206Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Intentional doping of aluminum in 4H and 6H SiC has been performed using a hot-wall CVD reactor. The dependence of aluminum incorporation on temperature, pressure, C/Si ratio, growth rate, and TMA flow has been investigated. The aluminum incorporation showed to be polarity dependent. The high aluminum incorporation on the Si-face is closely related to the carbon coverage on the SiC surface. Changes in process parameters changes the effective C/Si ratio close to the SiC surface. Increased growth rate and C/Si ratio increases the aluminum incorporation on the Si-face. Diffusion limited incorporation occurs at high growth rate. Reduced pressure increases the effective C/Si ratio, and at low growth rate, the aluminum incorporation increases initially, levels off at a critical pressure, and continues to decrease below the critical pressure. The aluminum incorporation showed to be constant in a temperature range of 50°C. The highest atomic concentration of aluminum observed in this study was 3·1017 and 8·1018 cm-3 in Si and C-face, respectively.

  • 117.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Danielsson, Örjan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Linnarsson, M.K.
    Royal Institute of Technology.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Influence of growth parameters on the nitrogen incorporation in 4H- and 6H-SiC epilayers grown by hot-wall chemical vapour deposition2001Ingår i: Proc. of the MRS Spring Meeting 2001, 680E, 2001Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 118.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Linnarsson, MK
    Linkoping Univ, Dept Phys & Measurement Technol, SE-58183 Linkoping, Sweden ABB Corp Res, SE-72178 Vasteras, Sweden Royal Inst Technol, SE-16440 Kista, Sweden.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Photoluminescence study of CVD layers highly doped with nitrogen2000Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 338-342, 2000, Vol. 338-342, s. 619-622Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    From a systematic study of highly doped n-type 4H-SiC epilayers we observe a photoluminescence spectrum, which was previously associated with the recombination of a bound exciton at the neutral boron acceptor. Electrical measurements performed on these layers show clearly n-type conductivity. It was feasible to dope and measure reproducibly the layers from low 10(17) to mid 10(18) cm(-3). It was not possible to determine the doping from Capacitance Voltage measurements for the samples grown with the highest doping (>6.10(18) cm(-3)). However Secondary Ion Mass spectrometry did not reveal any boron impurities in the layers and shows good agreement with electrical measurements regarding the nitrogen concentration.

  • 119.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Rorsman, N.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Eriksson, J.
    Linnarsson, M. K.
    Solid State Electronics, Royal Institute of Technology, SE-164 40 Kista, Sweden.
    Danielsson, Örjan
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Storasta, Liutauras
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Growth and characterisation 4H-SiC MESFET structures grown by Hot-Wall CVD2001Ingår i: Proc. of the MRS 2000 Fall Meeting, 2001, s. H2.3.2-Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Metal semiconductor field effect transistor structures have been grown in a hot-wall CVD reactor. Using trimethylaluminium and nitrogen, p- and n-type epitaxial layers were grown on semi insulating substrates. A comprehensive characterization study of thickness and doping of these multi structures has been performed by using scanning electron microscopy , secondary ion mass spectrometry, capacitance-voltage and low temperature photoluminescence. Optimisation of growth parameters has resulted in very abrupt doping profiles. The grown metal semiconductor field effect transistor structures have been processed and parts of the transistor properties are presented.

  • 120.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Kakanakova-Georgieva, Anelia
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Ivanov, Ivan Gueorguiev
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Hot-wall MOCVD growth and characterization of III-nitrides for HEMT application2006Ingår i: WOCSDICE 2006,2006, 2006Konferensbidrag (Övrigt vetenskapligt)
  • 121.
    Forsberg, Urban
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Lundskog, Anders
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Kakanakova-Georgieva, Anelia
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Ciechonski, Rafal
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Improved hot-wall MOCVD growth of highly uniform AlGaN/GaN/HEMT structures2009Ingår i: Journal of Crystal Growth, ISSN 0022-0248, E-ISSN 1873-5002, Vol. 311, nr 10, s. 3007-3010Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The inherent advantages of the hot-wall metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) reactor (low temperature gradients, less bowing of the wafer during growth, efficient precursor cracking) compared to a cold-wall reactor make it easier to obtain uniform growth. However, arcing may occur in the growth chamber during growth, which deteriorates the properties of the grown material. By inserting insulating pyrolytic BN (PBN) stripes in the growth chamber we have completely eliminated this problem. Using this novel approach we have grown highly uniform, advanced high electron mobility transistor (HEMT) structures on 4 semi-insulating (SI) SiC substrates with gas-foil rotation of the substrate. The nonuniformities of sheet resistance and epilayer thickness are typically less than 3% over the wafer. The room temperature hall mobility of the 2DEG is well above 2000 cm(2)/V s and the sheet resistance about 270 Omega/sqr.

  • 122. Gali, A.
    et al.
    Bockstedte, M.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Umeda, T.
    Isoya, J.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Divacancy and its identification2006Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 527-529, 2006, s. 523-Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

      

  • 123. Gali, A
    et al.
    Deák, P
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Possibility for the electrical activation of the carbon antisite by hydrogen in SiC2005Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Calculations predict the carbon antisite to be the most abundant intrinsic defect in silicon carbide in a wide range of doping. The isolated carbon antisite is, however, optically and electronically inactive, therefore, difficult to observe by usual experimental techniques. However, CSi can trap mobile impurities forming electrically active complexes. We will show by ab initio supercell calculations that the hydrogen interstitial is trapped by the carbon antisite forming an electrically active defect which might be detectable by different spectroscopic techniques. The key to activate C Si by hydrogen is to introduce sufficient amount of hydrogen in the SiC samples and to avoid formation of vacancies or boron-hydrogen complexes. We have found that the concentration of CSi+H complex is above 10 13 cm-3 in highly doped p-type chemical vapor deposited (CVD) layers as well as in highly doped p-type and n-type SiC samples annealed in high temperature high pressure (HTHP) H2 gas. The concentration of CSi+H complex can be enhanced in Al-doped CVD and HTHP SiC samples by applying the appropriate post-annealing temperature. The CSi+H complex might be also detected in Al-doped SiC samples irradiated at room temperature by low energy H2+ ions. ©2005 The American Physical Society.

  • 124. Gali, A
    et al.
    Hornos, T
    Deák, P
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik.
    Choyke, W
    Activation of shallow boron acceptor in CB coimplanted silicon carbide: A theoretical study2005Ingår i: Applied Physics Letters, ISSN 0003-6951, E-ISSN 1077-3118, Vol. 86, nr 10, s. 102108-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Ab initio supercell calculations have been carried out to investigate the complexes of boron acceptors with carbon self-interstitials in cubic silicon carbide. Based on the calculated binding energies, the complex formation of carbon interstitials with shallow boron acceptor and boron interstitial is energetically favored in silicon carbide. These bistable boron defects possess deep, negative- U occupation levels in the band gap. The theoretical results can explain the observed activation rates in carbon-boron coimplantation experiments. © 2005 American Institute of Physics.

  • 125. Gali, A.
    et al.
    Hornos, T.
    Deák, P.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, W.
    Theoretical investigations of complexes of p-type dopants and carbon interstitial in SiC: bistable, negatice-U defects2005Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 483-485, 2005, Vol. 483-485, s. 519-522Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 126. Gali, A.
    et al.
    Hornos, T.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    New type of defects explored by theory: silicon interstitial clusters in SiC2009Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 600-603, Trans Tech Publications , 2009, s. 413-Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 127. Gali, A.
    et al.
    Hornos, T.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, W.J.
    Ab initio supercell calculations on aluminum-related defects in SiC2007Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics, ISSN 1098-0121, E-ISSN 1550-235X, Vol. 75, nr 4Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Ab initio supercell calculations of the binding energies predict complex formation between aluminum and carbon interstitials in SiC. In high-energy implanted SiC aluminum acceptor can form very stable complexes with two carbon interstitials. We also show that carbon vacancy can be attached to shallow aluminum acceptor. All of these defects produce deep levels in the band gap. The possible relation of these defects to the recently found aluminum-related deep-level transient spectroscopy centers is discussed. © 2007 The American Physical Society.

  • 128. Gali, A.
    et al.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Electrical characterization of metastable carbon clusters in SiC - a theoretical Study2006Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics, ISSN 1098-0121, E-ISSN 1550-235X, Vol. 73, s. 033204-1-033204-4Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
  • 129.
    Gali, Adam
    et al.
    Department of Atomic Physics, Budapest Univ. of Technol./Economics, Budafoki út 8, H-1111 Budapest, Hungary.
    Deak, P.
    Deák, P., Department of Atomic Physics, Budapest Univ. of Technol./Economics, Budafoki út 8, H-1111 Budapest, Hungary.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Hydrogen passivation of nitrogen in SiC2003Ingår i: Applied Physics Letters, ISSN 0003-6951, E-ISSN 1077-3118, Vol. 83, nr 7, s. 1385-1387Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A study is performed on hydrogen passivation of nitrogen in SiC. The first-principles calculations show that hydrogen may form stable complexes with substitutional nitrogen, passivating the shallow nitrogen donor. It is found that the complex is stable with respect to negatively charged hydrogen interstitials and isolated positive donors.

  • 130.
    Gali, Adam
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Deak, P
    Budapest Univ Technol & Econ, Dept Atom Phys, HU-1111 Budapest, Hungary Linkoping Univ, Dept Phys & Measurement Technol, SE-58183 Linkoping, Sweden.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Theoretical investigation of an intrinsic defect in SiC2002Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 389-393, 2002, Vol. 389-3, s. 477-480Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Ab initio calculation of the local vibrational modes of a carbon pair in the silicon vacancy (V-Si+2C) shows that it cannot be the origin of the D-II photoluminescence (PL) center, however, it seems likely, that this defect gives rise to the Ramanpeaks observed at 1080 and 1435 cm(-1) in proton irradiated samples. Occupation levels of the V-Si+2C defect are also predicted to facilitate experimental confirmation.

  • 131.
    Gali, Adam
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Deak, P
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    von Bardeleben, HJ
    Monge, JL
    Calculation of hyperfine constants of defects in 4H-SiC2003Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 433-436, 2003, Vol. 433-4, s. 511-514Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Knowledge about the creation and diffusion of intrinsic point defects is crucial for devising annealing strategies after irradiation steps as, e.g., implantation. Experimental information can be obtained by observing the appearance and/or disappearance of characteristic electrical, optical or magnetic spectra, however, these have to be first assigned to a given defect. In case of silicon carbide even this very first task has not been accomplished yet in case of the carbon vacancy, with which two different electron spin resonance (ESR) centers (anneling out at very different temperatures) have been identified. Ab initio all-electron supercell calculations have been carried out to determine the hyperfine constants of several defects in 4H-SiC in order to justify the models of the measured ESR signals. The quality of the results were tested on the well-documented case of interstitial hydrogen in silicon.

  • 132.
    Gali, Adam
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Deak, P
    Ordejon, P
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, WJ
    Aggregation of carbon interstitials in silicon carbide: A theoretical study2003Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics, ISSN 1098-0121, E-ISSN 1550-235X, Vol. 68, nr 12Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Ab initio supercell calculations have been carried out to investigate clusters of carbon interstitials in 3C- and 4H-SiC. Based on the calculated formation energies, the complex formation of carbon interstitials or their aggregation to carbon antisites is energetically favored in SiC. The electronic and vibronic properties of the carbon interstitials and their aggregates depends strongly on the polytype. Using the calculated hyperfine constants and local vibrational modes of carbon clusters the possible relation to known carbon-related centers will be discussed.

  • 133.
    Gali, Adam
    et al.
    Department of Atomic Physics, Budapest Univ. of Technol./Economics, Budafoki út 8, H-1111 Budapest, Hungary.
    Deak, P.
    Deák, P., Department of Atomic Physics, Budapest Univ. of Technol./Economics, Budafoki út 8, H-1111 Budapest, Hungary.
    Rauls, E.
    Theoretische Physik, Universität Paderborn, D-33098 Paderborn, Germany.
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivanov, Ivan Gueorguiev
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Carlsson, Fredrik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, W.J.
    Department of Physics, University of Pittsburgh, Pittsburgh, PA 15260, United States.
    Anti-site pair in SiC: A model of the DI center2003Ingår i: Physica B, 2003, Vol. 340-342, s. 175-179Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The DI low-temperature photoluminescence center is a well-known defect stable up to 1700°C annealing in SiC, still its structure is not known after decades of study. Combining experimental and theoretical studies in this paper we will show that the properties of an anti-site pair can reproduce the measured one-electron level position and local vibration modes of the D I center and the model is consistent with other experimental findings as well. We give theoretical values of the hyperfine constants of the anti-site pair in its paramagnetic state as a means to confirm our model. © 2003 Elsevier B.V. All rights reserved.

  • 134.
    Gali, Adam
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Deak, P
    Rauls, E
    Nguyen, Tien Son
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivanov, Ivan Gueorguiev
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Carlsson, Fredrik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, WJ
    Correlation between the antisite pair and the D-I center in SiC2003Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics, ISSN 1098-0121, E-ISSN 1550-235X, Vol. 67, nr 15Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The D-I low temperature photoluminescence center is a well-known defect stable up to 1700 degreesC annealing in SiC, still its structure is not yet known. Combining experimental and theoretical studies, in this paper we will show that the properties of an antisite pair can reproduce the measured one-electron level position and local vibration modes of the D-I center, and are consistent with other experimental findings as well. We give theoretical values of the hyperfine constants of the antisite pair in its paramagnetic state as a means to confirm a model.

  • 135. Gali, Adam
    et al.
    Deák, P.
    Rauls, E.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Ivanov, Ivan Gueorguiev
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Carlsson, Fredrik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Choyke, W.J.
    Antisites as possible origin of irradiation induced photoluminescence centers in SiC: A theoretical study on clusters of antisites and carbon interstitials in 4H-SiC2004Ingår i: Mater. Sci. Forum, Vol. 457-460, Trans Tech Publications Inc. , 2004, s. 443-Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 136.
    Gali, Adam
    et al.
    Department of Atomic Physics, Budapest Univ. of Technol./Economics, Budafoki út 8, H-1111 Budapest, Hungary.
    Gällström, Andreas
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Son, Nguyen Tien
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Theory of neutral divacancy in SiC: a defect for spintronics2010Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 645-648, Trans Tech Publications , 2010, s. 395-397Konferensbidrag (Refereegranskat)
  • 137.
    Gali, Adam
    et al.
    Budapest University of Technology & Economics.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Materiefysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Deak, Peter
    University of Bremen.
    Kresse, Georg
    University of Vienna.
    Kaxiras, Efthimios
    Harvard University.
    Theory of Spin-Conserving Excitation of the N-V- Center in Diamond2009Ingår i: PHYSICAL REVIEW LETTERS, ISSN 0031-9007, Vol. 103, nr 18, s. 186404-Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The negatively charged nitrogen-vacancy defect in diamond is an important atomic-scale structure that can be used as a qubit in quantum computing and as a marker in biomedical applications. Its usefulness relies on the ability to optically excite electrons between well-defined gap states, which requires a clear and detailed understanding of the relevant states and excitation processes. Here we show that by using hybrid density-functional-theory calculations in a large supercell we can reproduce the zero-phonon line and the Stokes and anti-Stokes shifts, yielding a complete picture of the spin-conserving excitation of this defect.

  • 138.
    Gali, Adam
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
    Umeda, T.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Morishita, N.
    Ohshima, T.
    Isoya, J.
    Identification of the Di-Carbon Antisite Defect in n-type 4H-SiC2009Ingår i: Materials Science Forum Vols. 615-617, Trans Tech Publications , 2009, s. 361-Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

      

  • 139.
    Gali, Ádám
    et al.
    Budapest University of Technology and Economics, Hungary .
    Bockstedte, Michel
    Universität Erlangen-Nürnberg, Germany .
    Son, Nguyen Tien
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Point defects in SiC2008Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Tight control of defects is pivotal for semiconductor technology. However, even the basic defects are not entirely understood in silicon carbide. In the recent years significant advances have been reached in the identification of defects by combining the experimental tools like electron paramagnetic resonance and photoluminescence with ab initio calculations. We summarize these results and their consequences in silicon carbide based technology. We show recent methodological developments making possible the accurate calculation of absorption and emission signals of defects.

  • 140.
    Gueorguiev Ivanov, Ivan
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gällström, Andreas
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Leone, Stefano
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Kordina, Olle
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Tien Son, Nguyen
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivády, Viktor
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Teoretisk Fysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gali, Adam
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Optical properties of the niobium centre in 4H, 6H, and 15R SiC2013Ingår i: SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2012, Trans Tech Publications , 2013, Vol. 740-742, s. 405-408Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A set of lines in the photoluminescence spectra of 4H-, 6H-, and 15R-SiC in the near-infrared are attributed to Nb-related defects on the ground of doping experiments conducted with 4H-SiC. A model based on a an exciton bound at the Nb-centre in an asymmetric split vacancy configuration at a hexagonal site is proposed, which explains the structure of the luminescence spectrum and the observed Zeeman splitting of the lines.

  • 141.
    Gustafsson, Sebastian
    et al.
    Microwave Electronics Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Göteborg, Sweden.
    Chen, Jr-Tai
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Bergsten, Johan
    Microwave Electronics Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Göteborg, Sweden.
    Forsberg, Urban
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Thorsell, Mattias
    Microwave Electronics Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Göteborg, Sweden.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Rorsman, Niklas
    Microwave Electronics Laboratory, Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Göteborg, Sweden.
    Dispersive Effects in Microwave AlGaN/AlN/GaN HEMTs With Carbon-Doped Buffer2015Ingår i: IEEE Transactions on Electron Devices, ISSN 0018-9383, E-ISSN 1557-9646, Vol. 62, nr 7, s. 2162-2169Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Aluminium gallium nitride (AlGaN)/GaN high-electron mobility transistor performance is to a large extent affected by the buffer design, which, in this paper, is varied using different levels of carbon incorporation. Three epitaxial structures have been fabricated: 1) two with uniform carbon doping profile but different carbon concentration and 2) one with a stepped doping profile. The epitaxial structures have been grown on 4H-SiC using hot-wall metal-organic chemical vapor deposition with residual carbon doping. The leakage currents in OFF-state at 10 V drain voltage were in the same order of magnitude (10-4 A/mm) for the high-doped and stepped-doped buffer. The high-doped material had a current collapse (CC) of 78.8% compared with 16.1% for the stepped-doped material under dynamic I-V conditions. The low-doped material had low CC (5.2%) but poor buffer isolation. Trap characterization revealed that the high-doped material had two trap levels at 0.15 and 0.59 eV, and the low-doped material had one trap level at 0.59 eV.

  • 142.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Norstel AB, Norrköping, Sweden.
    Beyer, Franziska
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gali, Adam
    Budapest University of Technology and Economics and Hungarian Academy of Science, Budapest, Hungary .
    Son, Nguyen Tien
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Leone, Stefano
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivanov, Ivan G.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Hemmingsson, Carl
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Electronic Configuration of Tungsten in 4H-, 6H-, and 15R-SiC2012Ingår i: Materials Science Forum Vols 717 - 720, Trans Tech Publications Inc., 2012, Vol. 717-720, s. 211-216Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    A commonly observed unidentified photoluminescence center in SiC is UD-1. In this report, the UD-1 center is identified to be tungsten related. The identification is based on (i) a W-doping study, the confirmation of W in the samples was made using deep level transient spectroscopy (DLTS), (ii) the optical activation energy of the absorption of UD-1 in weakly n-type samples corresponds to the activation energy of the deep tungsten center observed using DLTS. The tungsten-related optical centers are reported in 4H-, 6H-, and 15R-SiC. Further, a crystal field model for a tungsten atom occupying a Si-site is suggested. This crystal field model is in agreement with the experimental data available: polarization, temperature dependence and magnetic field splitting.

  • 143.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Beyer, Franziska
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Gali, Adam
    Budapest University of Technology and Economics, Hungary.
    Son Tien, Nguyen
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Leone, Stefano
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivanov, Ivan Gueorguiev
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Hemmingsson, Carl
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Optical identification and electronic configuration of tungsten in 4H-and 6H-SiC2012Ingår i: Physica. B, Condensed matter, ISSN 0921-4526, E-ISSN 1873-2135, Vol. 407, nr 10, s. 1462-1466Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    Several optically observed deep level defects in SiC are still unidentified and little is published on their behavior. One of the commonly observed deep level defects in semi-insulating SiC is UD-1. less thanbrgreater than less thanbrgreater thanThis report suggests that UD-1 is Tungsten related, based on a doping study and previously reported deep level transient spectroscopy data, as well as photo-induced absorption measurements. The electronic levels involved in the optical transitions of UD-1 are also deduced. The transitions observed in the photoluminescence of UD-1 are from a Gamma(C3v)(4), to two different final states, which transform according to Gamma(C3v)(5)circle plus Gamma(C3v)(6) and Gamma(C3v)(4), respectively.

  • 144.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Carlsson, Patrick
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Nguyen, Son Tien
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Beyer, Franziska
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Syväjärvi, Mikael
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Yakimova, Rositsa
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Influence of Cooling Rate after High Temperature Annealing on Deep Levels in High-Purity Semi-Insulating 4H-SiC2007Ingår i: Materials Science Forum, vol. 556-557, Trans Tech Publications , 2007, s. 371-Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The influence of different cooling rates on deep levels in 4H-SiC after high temperature annealing has been investigated. The samples were heated from room temperature to 2300°C, followed by a 20 minutes anneal at this temperature. Different subsequent cooling sequences down to 1100°C were used. The samples have been investigated using photoluminescence (PL) and IV characteristics. The PL intensities of the silicon vacancy (VSi) and UD-2, were found to increase with a faster cooling rate.

  • 145.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ellison, A.
    Gali, Adam
    Wigner Research Center for Physics, Hungarian Academy of Sciences / Department of Atomic Physics, Budapest University of Technology and Economics, Hungary.
    Ivanov, Ivan G.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    A defect center for quantum computing: Mo in SiCManuskript (preprint) (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

    The electronic structure and vibrational properties of molybdenum (Mo) in SiC are analyzed and investigated in detail. Mo is considered as occupying the silicon-carbon divacancy in the so-called asymmetric split vacancy (ASV) configuration. Group-theoretical considerations within this model are used to explain the experimental results (optical properties and behavior in magnetic field). The vibrational properties of the defect are studied using simple the “defect molecule” model with parameters determined phenomenologically from the experimental data. The position of Mo in the ASV configuration deduced from this model is shown to be in good agreement with the earlier reported data from ab initio supercell calculations. The usefulness of molybdenum in SiC in quantum computing is investigated, and it shown that Mo is a highly promising candidate for quantum computing.

  • 146.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Optical identification of Mo related deep level defect in 4H and 6H SiC2009Ingår i: Materials Science Forum Vols. 615-617, Trans Tech Publications , 2009, s. 405-408Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The photoluminescence (PL) from the I 1 centre is observed in p-, n-type as well as in compensated samples, using above band gap excitation. The PL from I 1 in the two polytypes 4H and 6H is very similar, the difference being the position of the main peak, in 4H 1.1521 eV and 1.1057 eV in 6H. We here suggest I-1 to be Mo related based on intentional doping, SIMS results and comparison with earlier reports of Mo in SiC using magnetic resonance techniques. From PL measurements, we analyze the electron structure of the defect, and suggest it be the neutral Mo (4d2) residing on a Si site, the luminescence coming from the transition between the 3A2 multiplet of the first excited electronic configuration and the ground state 3A2.

  • 147.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Leone, Stefano
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Kordina, Olof
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Son, Nguyen Tien
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Ivády, Viktor
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Teoretisk Fysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten. Wigner Research Center for Physics, Hungarian Academy of Sciences, Hungary.
    Gali, Adam
    Wigner Research Center for Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest Hungary; Department of Atomic Physics, Budapest University of Technology and Economics, Budapest, Hungary.
    Abrikosov, Igor A.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Teoretisk Fysik. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten. Materials Modeling and Development Laboratory, NUST “MISIS,” Moscow, Russia; LACOMAS Laboratory, Tomsk State University, Tomsk, Russia.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Ivanov, Ivan G.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska fakulteten.
    Optical properties and Zeeman spectroscopy of niobium in silicon carbide2015Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics, ISSN 1098-0121, E-ISSN 1550-235X, Vol. 92, nr 7, s. 1-14, artikel-id 075207Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The optical signature of niobium in the low-temperature photoluminescence spectra of three common polytypes of SiC (4H, 6H, and 15R) is observed and confirms the previously suggested concept that Nb occupies preferably the Si-C divacancy with both Si and C at hexagonal sites. Using this concept we propose a model considering a Nb-bound exciton, the recombination of which is responsible for the observed luminescence. The exciton energy is estimated using first-principles calculation and the result is in very good agreement with the experimentally observed photon energy in 4H SiC at low temperature. The appearance of six Nb-related lines in the spectra of the hexagonal 4H and 6H polytypes at higher temperatures is tentatively explained on the grounds of the proposed model and the concept that the Nb center can exist in both C1h and C3v symmetries. The Zeeman splitting of the photoluminescence lines is also recorded in two different experimental geometries and the results are compared with theory based on phenomenological Hamiltonians. Our results show that Nb occupying the divacancy at the hexagonal site in the studied SiC polytypes behaves like a deep acceptor.

  • 148.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Thuaire, A.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Paskov, Plamen
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    The Electronic Structure of the UD-4 defect in 4H, 6H and 15R SiC2009Ingår i: Materials Science Forum, Vols. 600-603, Trans Tech Publications , 2009, s. 397-400Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The photoluminescence (PL) of the UD-4 defect is observed in semi-insulating bulk 4H, 6H and 15R SiC. In 4H and 6H SiC the UD-4 defect consists of two families of no-phonon (NP) lines, Ua and Ub, and in 15R SiC it consists of three families, Ua, Ub and U15R. The Ua family in 4H, 6H and 15R all show similar temperature behavior with higher energy NP lines becomming observable at higher temperatures. In the case of the Ub and U15R families, a luminescence line with lower energy than the prominent luminescence line appears at higher temperatures. The polarization and Zeeman measurements suggest that the defect has C3v symmetry.

  • 149.
    Gällström, Andreas
    et al.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Tien Son, Nguyen
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Ivanov, Ivan G.
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
    Optical identification of intrinsic nearest-neighbor defects in SiC2015Manuskript (preprint) (Övrigt vetenskapligt)
    Abstract [en]

    The optical signature of two types of intrinsic nearest-neighbor defects in SiC is observed in 4H- and 6H-SiC. The first optical signature belong to a defect previously known as UD-2 and identified as the divacancy pair, and the second – to a defect referred to here as UD-0, an unidentified defect. In both these defects, the number of optical centers is equal to the number of possible configurations for nearest-neighbor pairs in the unit cells of these polytypes. The polarization of all optical transitions is investigated. The formation of the two defects by means of electron irradiation and subsequent annealing in samples with different Fermi levels is studied, too. The observed transitions are investigated using group-theoretical analysis and UD-0 is tentatively assigned to the carbon-vacancy carbonantisite pair, based on energy positions of the lines and spin configuration.

  • 150. Hahn, S.
    et al.
    Beyer, Franziska
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Gällström, Andreas
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Carlsson, Patrick
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Henry, Anne
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Magnusson, Björn
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Niklas, J.
    Janzén, Erik
    Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Halvledarmaterial.
    Contact-Less Electrical Defect Characterization of Semi-Insulating 6H-SiC Bulk Material2009Ingår i: Materials Science Forum Vols. 600-603, Trans Tech Publications , 2009, s. 405-408Konferensbidrag (Refereegranskat)
    Abstract [en]

    The novel technique microwave detected photo induced current transient spectroscopy (MD-PICTS) was applied to semi-insulating 6H-SiC in order to investigate the properties of inherent defect levels. Defect spectra can be obtained in the similar way to conventional PICTS and DLTS. However, there is no need for contacting the samples, which allows for non-destructive and spatially resolved electrical characterization. This work is focused on the investigation of semi-insulating 6H-SiC grown under different C/Si-ratios. In the corresponding MD-PICTS spectra several shallow defect levels appear in the low temperature range. However the peak assignment needs further investigation. Additionally different trap reemission dynamics are obtained for higher temperatures, which are supposed to be due to different compensation effects.

1234567 101 - 150 av 575
RefereraExporteraLänk till träfflistan
Permanent länk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf