liu.seSök publikationer i DiVA
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Optimization of azimuth angle settings in polarizer-compensator-sample-analyzer off-null ellipsometry
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Tillämpad optik.ORCID-id: 0000-0001-9229-2028
Linköpings universitet, Tekniska högskolan. Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi.
2003 (Engelska)Ingår i: Applied Optics, ISSN 1559-128X, E-ISSN 2155-3165, Vol. 42, nr 1, s. 38-44Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

The dependence of the azimuth angle settings on the change in off-null intensity of a polarizer-.compensator-sample-analyzer ellipsometer owing to changes in sample properties is studied. First, a closed-form expression for the relationship between azimuth angles that fulfill the null condition is presented. An approximation for the off-null light intensity near null that is valid for small changes of the p- and s-reflection coefficients of an isotropic sample is then derived. This approximation shows that the intensity change near the null can be described by changes in the ellipsometric parameters tan q, and Delta only. Expressions for finding the azimuth angle that gives the maximum possible intensity change for a given change in the sample parameters are also derived. The importance of optimization of azimuth angle settings for different samples is investigated and found to depend on tan psi. Numerical and experimental results chosen from the investigation of gas sensors based on porous silicon are included to verify the approximations as well as the optimization. (C) 2003 Optical Society of America.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2003. Vol. 42, nr 1, s. 38-44
Nationell ämneskategori
Teknik och teknologier
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-48339OAI: oai:DiVA.org:liu-48339DiVA, id: diva2:269235
Tillgänglig från: 2009-10-11 Skapad: 2009-10-11 Senast uppdaterad: 2017-12-12

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Person

Wang, GuoliangArwin, HansJansson, Roger

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Wang, GuoliangArwin, HansJansson, Roger
Av organisationen
Tekniska högskolanInstitutionen för fysik, kemi och biologiTillämpad optik
I samma tidskrift
Applied Optics
Teknik och teknologier

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 109 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • oxford
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf